Coucheuse optique par évaporation par dépôt assisté par faisceau d'ions
Description
Il s’agit d’un équipement haut de gamme destiné à la préparation de dispositifs optoélectroniques de très haute précision. En se concentrant sur un revêtement optique de haute qualité, il présente une valeur de diffusion et une densité de défauts extrêmement faibles. Convient à la production de revêtements de haute précision dans des applications exigeantes telles que le laser, la communication optique, l'aérospatiale, le biomédical, l'optique automobile, les capteurs MEMS et les semi-conducteurs panoramiques.
Application
Verre bleu et verre blanc IR-CUT, verre bleu et verre blanc AR, lentille en résine AR, prisme périscope à angle droit, etc.
Caractéristiques
- Machine standard de production de masse
- Moniteur en ligne en temps réel
- Contrôle optique entièrement autonome
- Conception de processus ouverts
- Source d'ions RISE RF : le courant du faisceau d'ions est précis et contrôlable, avec un long temps de travail continu, adapté à divers gaz de travail et sans pollution pour la couche de film.
- Source plasma unique : entraînement par radiofréquence, fonctionnement sans consommable, fournissant des ions oxygène purs, assurant d'excellents indicateurs spectraux dans des bandes spécifiques.
- Contrôle de la lumière : précision du contrôle de la formation du film contrôlé par la lumière : 0,1-0,3 %, avec une structure unique et une conception de chemin optique efficace, une collecte en temps réel de données spectrales ultra-rapides et de manière indépendante développé un algorithme de base intelligent contrôlé par la lumière.
- Système de contrôle innovant : architecture de système modulaire ouverte, système de contrôle intelligent basé sur ARM, expérience d'interaction homme-machine conviviale, prenant en charge l'architecture IoT et cloud computing.
Paramètres techniques
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Modèle |
OPIE1550 |
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Salle sous vide |
SUS304, φ1550mmx1600mm(H) |
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Système de vide |
4 pompes moléculaires +1 ensemble de pompe mécanique/unité de pompe à racines |
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Support à pièces |
diamètre du disque de la pièce 1460 mm, vitesse de rotation 0-30 tr/min |
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Source de vapeur |
2 jeux de pistolets électroniques (pistolets doubles, double balayage, double filaments, angle de déviation du faisceau de 270- degrés, puissance 10 KW) |
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Système de dépôt |
Source d'ions radiofréquence RISE + source plasma spéciale (en option) |
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Système de contrôle |
Système de contrôle intelligent de dépôt sous vide |
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Système de surveillance |
Le système de surveillance de l’épaisseur du film cristallin |
configuré selon des exigences spécifiques, configuration standard |
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Système de surveillance optique en temps réel à couches minces |
système de contrôle optique auto-développé (large spectre, longueur d'onde unique) en option |
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Système de refroidissement en profondeur |
puissance du compresseur 10KW, température de refroidissement de la bobine<-130°C |
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